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  同花顺300033）金融研究中心10月15日讯，有投资者向聚和资料发问， 公司收买的ske空白掩膜板是否是光刻机里边光刻工艺所需求的图形模板？光刻机出产芯片都要用到掩膜板吗？

  公司答复表明，敬重的投资者，您好。空白掩模版是掩模版的中心要害原资料，首要经过在超高纯度石英基板上顺次完结切磨抛、清洗、镀膜、光刻胶涂胶及产品测验等工序制成。因而，光刻胶归于空白掩膜版的中心原资料之一。掩模版又称光罩、光掩模等，是光刻工艺所用的图形母版，其制造中心是在空白掩膜基板上构成特定电路图形，再经过曝光将图形转印到晶圆上，功用相似传统照相机的 “底片”，因而每款新规划的芯片，都需匹配一整套掩模版模具。感谢您的重视！